設備紹介 試料作製装置材料加工装置熱処理装置組織解析装置特性評価装置TEM試料作製装置その他 試料作製装置 高周波真空溶解装置 (富士電波工機) 四楕円鏡型FZ炉,FZ-T-4000-H-VIII-VPO-PC-N(クリスタルシステム) アーク溶解炉,NAF-361-31(日本特殊機械) 真空蒸着装置,VPC-260F(ULVAC) 材料加工装置 放電加工機,DE-70-5T(三協エンジニヤリング) 万能工作機,TNL500-3M(メカニクス) 低速ダイヤモンドカッター,アイソメット(ビューラー) 振動研磨機,バイブロメット2(ビューラー) 回転研磨機,プラトFRD(アキュラ) 金属用ラボカッター,MC-122(マルトー) 熱処理装置 直流磁場中熱処理装置 / 1.5T, 1200℃(玉川製作所 / サーモ理工) 交流磁場中熱処理装置 / 60Hz, 0.5T, 1500℃(電子磁気工業 / サーモ理工) 真空置換炉,特注 / 1000℃ (ヒートテック) シリコニット炉 / 1500℃ (光洋サーモシステム) マッフル炉 / 1100℃ (光洋サーモシステム) [左,中央] チューブ炉 / 1100℃ (光洋サーモシステム) [右] 組織解析装置 電界放出型走査電子顕微鏡 SU5000 (日立ハイテク) ・OIM結晶方位自動解析装置(TSL) ・EDS分析装置(EDAX) ・Evactronデコンタミネータ(XEI Scientific) 電界放出型透過電子顕微鏡 (共通装置),Tecnai F20 (FEI) 透過型電子顕微鏡 (共通装置), JEM-2100Plus (日本電子) 集束イオンビーム (共通装置),NB5000 (日立ハイテク) 電子線マイクロアナライザ (共通装置), EPMA-1720HT (島津製作所) Kerr効果顕微鏡 (オリンパス) 光学顕微鏡 (ライカ) 光学顕微鏡 (オリンパス) 高温顕微鏡 / 1500℃ (ジャパンハイテック) 特性評価装置 振動試料型磁気測定装置,VSM(玉川製作所) 超高温万能試験装置,AG-50kNG /50kN, 2000℃(島津製作所 / ソーワ科学) 高温クリープ試験装置,特注, 1000℃(島津製作所) 走査型プローブ顕微鏡,SPM9700HT(島津製作所) 表面電位計測システム(ケルビンプローブ法) 局所電流計測システム 局所熱伝導特性計測システム(μ-TA) ビッカース硬度計(ミツトヨ) ビッカース硬度計(島津製作所) トライボインデンター,TI750(HYSITRON) ラウエカメラ,IPX-LC(IPX) 紫外可視光度計 UV-2400PC (島津製作所) TEM試料作製装置 ワイヤーソー(メイワフォーシス) 超音波加工機(メイワフォーシス) ディンプルグラインダー II(Gatan) 薄膜作製装置・イオンスライサ(日本電子) 精密イオン研磨機,PIPS II(Gatan) イオンビームミリング装置,EM RES102(ライカ) テヌポール(丸本ストルアス) その他 電子天秤 / 0.1mg(A&D)[左] 電子天秤 / 0.1mg(ザルトリウス)[右]